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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:雙靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH500- II-DCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。與同類設備相比,這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,切體積小便于操作,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
詳情介紹:

產(chǎn)品特點

1:此款鍍膜儀配置有兩個靶槍:一個靶槍配套的是射頻電源,用于非導電靶材的濺射鍍膜;一個靶槍配套的是直流電源,用于導電材料的濺射鍍膜

2:該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜,應用非常廣泛。

3:該鍍膜儀體積較小,且配備有觸摸屏控制面板,操作方便。

產(chǎn)品參數(shù):

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH500- II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V50Hz

整機功率

4KW

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ140mm

加熱溫度

500℃

控溫精度

±1

可調(diào)轉速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ500mm,高度560mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源500W,射頻電源500W

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

設備尺寸

600mm × 650mm × 1280mm

設備重量

350kg



豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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