- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本產(chǎn)品為旋涂?jī)x也稱勻膠機(jī),是利用高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力來涂覆膜料的設(shè)備。本型號(hào)采用工業(yè)級(jí)大功率伺服電機(jī),可實(shí)現(xiàn)更好的穩(wěn)定性和均勻性,zui大支持12寸直徑的基片。
旋涂?jī)x技術(shù)特點(diǎn):
旋涂?jī)x是一種常用的薄膜制備設(shè)備,其技術(shù)特點(diǎn)主要包括以下幾個(gè)方面:
1. 高效性:旋涂?jī)x可以在短時(shí)間內(nèi)制備出高質(zhì)量的薄膜,通常只需要幾分鐘到幾十分鐘的時(shí)間。
2. 精度高:旋涂?jī)x可以控制旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)時(shí)間、涂布速度等參數(shù),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度、均勻性、質(zhì)量等方面的jing que控制。
3. 適用性廣:旋涂?jī)x可以用于制備各種材料的薄膜,包括有機(jī)材料、無機(jī)材料、半導(dǎo)體材料等。
4. 易于操作:旋涂?jī)x的操作相對(duì)簡(jiǎn)單,只需要將溶液滴在基底上,然后啟動(dòng)旋轉(zhuǎn)即可。
5. 成本低:相對(duì)于其他薄膜制備技術(shù),旋涂?jī)x的設(shè)備成本和操作成本都比較低,適合小規(guī)模制備和科研實(shí)驗(yàn)室使用。
旋涂?jī)x應(yīng)用范圍:
旋涂?jī)x是一種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,主要用于制備薄膜材料。其應(yīng)用范圍包括但不限于:
1. 光電子學(xué)領(lǐng)域:制備太陽能電池、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)、有機(jī)太陽能電池(OPV)等。
2. 材料科學(xué)領(lǐng)域:制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚合物等材料的薄膜。
3. 生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域:制備生物傳感器、生物芯片等。
4. 納米科技領(lǐng)域:制備納米材料、納米結(jié)構(gòu)、納米薄膜等。
總之,旋涂?jī)x在材料科學(xué)、電子學(xué)、生物醫(yī)學(xué)和納米科技等領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用
旋涂?jī)x技術(shù)參數(shù):
型號(hào) |
CY-SPC12-PTFE |
輸入電源 |
AC220V, 50Hz |
腔體材料 |
聚四氟 |
樣品尺寸 |
直徑≤12英寸 |
轉(zhuǎn)速 |
0~5000rpm |
轉(zhuǎn)速分辨率 |
1rpm |
單步時(shí)間 |
3000s |
操作方式 |
7英寸高清LCD觸控屏 |
滴膠方式 |
手動(dòng)滴膠 |
勻膠曲線 |
可儲(chǔ)存5條曲線,每條曲線五段參數(shù) |
樣品托 |
真空吸附型 |
真空泵 |
無油真空泵 |
泵抽速 |
50L/min |
總重 |
40kg |