- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
主要功能及特點：
PECVD設備利用平板電容式輝光放電原理，將通入沉積室的工藝氣體解離并產(chǎn)生等離子體，被解離的基團在等離子體中重新發(fā)生化學反應，由于等離子體存在，促進氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離，促進反應活性基團的生成，從而降低沉積溫度，在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜?？筛鶕?jù)工藝調(diào)節(jié)等離子體的密度和能量，控制薄膜的生長速率和微結構。
產(chǎn)品參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
桌面式4英寸平板等離子體增強化學氣相沉積PECVD |
|
|
產(chǎn)品型號 |
CY-PECVD-240T-SS |
|
|
供電電源 |
AC220V 50Hz |
|
|
射頻電源 |
信號頻率 |
13.56MHz |
|
功率輸出范圍 |
||
|
工作腔體 |
加熱溫度 |
RT-500℃（還可選擇600℃，800℃，1000℃等） |
|
樣品臺尺寸 |
Φ100mm（兼容4英寸及以下樣品） |
|
|
樣品臺轉速 |
1-20rpm 可調(diào) |
|
|
腔體材質(zhì) |
不銹鋼 |
|
|
觀察窗 |
Φ60mm, 帶擋板 |
|
|
供氣系統(tǒng) |
通道數(shù) |
3 （可根據(jù)需要選擇其他通道數(shù)，其他氣體種類，其他測量范圍） |
|
測量單位 |
質(zhì)量流量計 |
|
|
測量范圍 |
A 通道: 0～200SCCM for O2 |
|
|
B通道: 0～200SCCM for N2 |
||
|
C通道: 0～200SCCM for Ar |
||
|
真空系統(tǒng) |
前級泵抽速 |
1.1L/s |
|
分子泵抽速 |
60L/s |
|
|
真空測量 |
復合真空計 |
|
|
真空度 |
5.0*10-3Pa |
|
|
水冷機 |
水流速 |
10L/min |
|
冷卻功率 |
50W/℃ |
|
